掩模版,又称光掩模版、光罩等,是微电子制造过程中的图形转移母版,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体,是平板显示、半导体、触控、电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。
掩膜版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上,从而实现批量化生产。掩膜版按照不同的分类标准分为不同的类型,按应用领域来看,掩膜版可分为半导体芯片、平板显示、电路板和触控等类型。当我们面对掩膜版这样的复杂结构时,测量工作常常显得无从下手。但是,有了我们的VMZS3020全自动影像测量仪,一切都将变得简单。它以独特的优势,***捕捉并解析掩膜版上的各种细节,尤其是那些隐藏在孔洞中的微小特征。
▲尼康VMZS3020全自动影像测量仪
在测量掩膜版的局部数据时,尼康VMZS3020全自动影像测量仪能够实现***的测量,并提供高质量的图像以供分析和比较。尼康VMZS3020全自动影像测量仪具有高精度,高速度,微米级公差管控的产品优势;从机械零件、模具零件到高密度印刷电路板,可满足各种各样的测量需求。尼康VMZS3020全自动影像测量仪能够快速准确地测量各种微小尺寸和形状的物体,以下是对掩膜版局部细节孔洞的测量图片示意。图片清晰地展示了VMZS3020的强大功能。从0.5mm放大至0.02mm的测量图片,这些观测细节正是掩膜版制造过程中的关键部分。而我们的仪器,可以***地测量并分析这些孔洞,为制造提供***的数据。